還原爐主要是用于半導體材料、納米材料、光線材料、銅粉，鈷粉，鎳粉，鎢粉，鉬粉，鎢粉，等在各種氣體保護下的各種復雜工藝，使物料與氫氣充分混合，氣體保護降溫，具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學、生產、新材料研發的重要設備，廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業領域。
　　還原爐的簡介：
　　1、能使物料充分與氫氣混合，使得物料縮短還原時間，節約大量氫氣（因為氫氣與物料充分混合）。
　　2、在物料還原結束后，可根據物料的特性在不同氣氛中快速或慢速降溫。
　　3、用工業微機對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應室壓力實現自動控制。
　　4、采用進口壓力控制系統，閉環控制，穩定性高。
　　5、采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。
　　6、具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。
　　7、具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。
　　還原爐的特點：
　　1、產品產量大、質量好：
　　粉末直接均布在鋼帶上，有效利用爐內空間；
　　物料均勻經過加熱區，溫度、帶速等工藝調整簡單方便；
　　2、能耗低：
　　全纖維針刺毯模塊，隔熱效果好，蓄能低，熱損失小；
　　3、爐管使用壽命長：
　　設有爐管預應力裝置，同時爐管底部墊有高強度，摩擦系數小，耐高溫的碳化硅板，以確保金屬爐管在高溫下平整受熱均勻而得以順利膨脹變形，使用壽命表同類產品提高1.3倍；
　　4、設備自動化程度高：
　　全自動溫度及動作控制，完善的警報裝置和閉鎖保護裝置。